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| 제 목 | 2017년 국가직 9급 화공일반 [반응기] | ||
| 수강 강좌 | [기출]9급 화공직 화학공학일반(60일) | ||
| 질문 강의 | 2017년 국가직 9급 화공직 공무원 화학공학일반 기출문제 해설(2) ( 확인이 필요한 강의 구간 : ) | ||
| 교재 | ( Page ) | ||
| 등록일 | 2025.06.10 | 조회수 | 8 |
교수님 제가 이해한게 맞는지 질문드립니다.
문 17. 공업용 반응기에 대한 설명으로 옳지 않은 것은?
① 반회분 반응기(semi-batch reactor)와 연속 교반탱크반응기(continuous stirred tank reactor, CSTR)는 주로 액상반응에 사용된다.
② 반회분 반응기는 기체가 액체를 통하여 기포를 만들면서 연속적으로 통과하는 2상 반응에서도 사용이 가능하다.
③ 반응기 부피당 전화율은 연속 교반탱크 반응기가 관형반응기(tubular reactor)보다 크다.
④ 관형 반응기는 반응기 내의 온도조절이 어려우며, 발열반응의경우 국소 고온점(hot spot)이 생길 수 있다.
답은 4번이었습니다
근데 3번이 어렵습니다. 전화율(x축)-FA0/rA(y축) 그래프로 설명해주셨는데 반응기부피는 CSTR(곱한면적)>PFR(적분면적)
이라는 것은 이해가 갔습니다. 하지만 같은 반응기 부피일때 PFR(전화율)>CSTR(전화율) 인것이 이해가 안됩니다.
CSTR: 타우/CA0=XA/-rA 에서 XA=(타우/CA0)*(-rA)
PFR: 타우/CA0=(XA/-rA)를 0부터 XA까지 적분한 것 에서 XA=(타우/CA0)의 미분값*(-rA)
이면 PFR이 전화율이 더 작은게 아닌가 해서.....제가 틀린생각을 하고 있다면 바로잡아 주시길 부탁드립니다
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